|
TwojePC.pl © 2001 - 2024
|
 |
Wtorek 4 września 2007 |
 |
| |
|
Nowa fabryka Toshiby i SanDiska
Autor: DYD | 08:36 |
|  Firmy Toshiba i SanDisk uświetniły dziś tradycyjną ceremonią i przyjęciem otwarcie Fab 4, najnowszego wydziału produkcyjnego 300-milimetrowych wafli krzemowych w należących do Toshiby zakładach Yokkaichi w prefekturze Mie w Japonii. Ze względu na rosnący popyt na pamięć NAND flash używaną w szerokiej gamie urządzeń cyfrowych, takich jak odtwarzacze multimedialne, telefony komórkowe, komputery PC i karty pamięci, w sierpniu 2006 roku Toshiba rozpoczęła budowę wydziału produkcyjnego Fab 4.
Fab 4 ma rozpocząć masową produkcję w grudniu 2007 roku i osiągnąć pełną zdolność produkcyjną (80.000 wafli miesięcznie) w drugiej połowie roku kalendarzowego 2008 r. Wydział dysponuje miejscem do przyszłego rozszerzenia produkcji, a dalsze inwestycje mogą zwiększyć zdolność produkcyjną do 210.000 wafli miesięcznie w reakcji na przewidywany wzrost popytu rynkowego. W Fab 4 będzie początkowo stosowany najnowocześniejszy, 56-nanometrowy (nm) proces technologiczny, a od marca 2008 roku planowane jest stopniowe przejście na technologię 43 nm.
"Toshiba i nasz partner SanDisk z wielkim zadowoleniem świętują ukończenie nowego wydziału produkcyjnego," - powiedział Shozo Saito, starszy wiceprezes Toshiba Corporation oraz prezes i dyrektor generalny Toshiba Semiconductor Company. - "Fab 4 zaoferuje światowej klasy możliwości wytwórcze, zarówno pod względem skali, jak i produktywności. Pomoże nam umocnić się na pozycji lidera na szybko rosnącym, globalnym rynku pamięci NAND o wyższej gęstości i będzie potężnym motorem wzrostu dla obu firm."
Toshiba sfinansowała budynek wydziału Fab 4, a Flash Alliance Ltd., spółka Toshiby i SanDiska założona w czerwcu 2006 roku (należąca w 50,1% do Toshiby i w 49,9% do SanDiska), finansuje sprzęt produkcyjny obecnie instalowany w fabryce.
Uwaga: 1 nanometr = jedna miliardowa część metra
Wydział produkcyjny Fab 4 w zakładach Yokkaichi - podstawowe informacje
" Struktura budynku: beton na stalowej ramie, pięć pięter (dwa piętra typu clean room z kontrolowanymi warunkami środowiskowymi)
" Powierzchnia budynku: ok. 35.500 m2
" Łączna powierzchnia pięter: ok. 181.000 m2
" Początek budowy: sierpień 2006 r.
" Ukończenie budynku: lipiec 2007 r.
" Planowany początek masowej produkcji: grudzień 2007 r.
Zakłady Yokkaichi - podstawowe informacje
" Położenie: 800 Yamanoisshiki-cho, Yokkaichi-shi, prefektura Mie, Japonia
" Założone: 1992 r.
" Dyrektor naczelny: Noriyoshi Tozawa
" Pracownicy: ok. 3200
" Łączny obszar zakładów: ok. 312.300 m2
" Łączna powierzchnia: ok. 460.000 m2 (razem z Fab 4)
Flash Alliance Ltd. - podstawowe informacje
" Położenie: 800 Yamanoisshiki-cho, Yokkaichi-shi, prefektura Mie, Japonia
" Założona: czerwiec 2006 r.
" Kapitalizacja: 3 miliony jenów
" Udziały: Toshiba: 50,1%, SanDisk: 49,9% |
| |
|
|
|
|
|
 |
 |
|
|
|
D O D A J K O M E N T A R Z |
 |
| |
|
Aby dodawać komentarze, należy się wpierw zarejestrować, ewentualnie jeśli posiadasz już swoje konto, należy się zalogować.
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
